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钒掺杂单层二硫化钨薄膜的制备方法
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钒掺杂单层二硫化钨薄膜的制备方法

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申 请 号:CN202211006800.5
专利类型:发明
价值度:E级
技术领域:化学;冶金
专利权人:天津理工大学
专利详情

本发明涉及一种钒掺杂单层二硫化钨薄膜及其制备方法,首先使用蒸镀法,将氧化钨和氧化钒在碳布上蒸成纳米线结构;再使用化学气相沉积法,以Si/SiO2为衬底,长有氧化钨和氧化钒纳米线的碳布作为钨源和钼源;将碳布放在衬底上,与硫蒸气发生反应,在衬底上制备获得所述的钒掺杂的单层二硫化钨薄膜。本发明通过一步化学气相沉积法实现钒掺杂单层二硫化钨的制备,高温下钒元素能够有效地部分取代钨元素,从而获得钒掺杂的单层二硫化钨。该方法操作简单、成本低、无催化剂且对环境友好。

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